CME Artikel entdecken 
Der ACTILINK-Anbieter Plasmapp aus Daejeon (Republik Korea) stützt sich auf eine Plasma-Technologie, die an der renommierten südkoreanischen Universität KAIST entwickelt wurde. Dabei wird das reinigende Plasma durch eine sogenannte Glimmentladung unter Vakuum auf der Implantatoberfläche erzeugt („transparente Vakuumelektrode“). Die darauf anhaftenden Verunreinigungen werden sublimiert und abgeführt. Sie reduzieren sich um rund 90 %, wie mit Hilfe von ESCA-Messungen (Röntgenphotoelektronen-spektroskopie) nachgewiesen wurde.
Der ACTILINK umfasst als kompaktes Gerät die gesamte Hard- und Software. Dazu gibt es auch die benötigten Verbrauchsmaterialien – alles aus einer Hand.
Ein Anwendungszyklus umfasst die beiden Schritte (1) Implantat-Verpackung unter Vakuum setzen und (2) Implantat-Oberfläche mit Plasma behandeln. Das dauert insgesamt nur etwa 1 Minute.
Zuverlässige Verminderung von Rückständen
Organische Rückstände auf Implantatoberflächen konnten in der Vergangenheit immer wieder durch REM-Aufnahmen (Rasterelektronenmikroskopie) entdeckt werden. Die Ergebnisse wurden in einschlägigen Veröffentlichungen dokumentiert.
Das Problem betraf selbst CE-gekennzeichnete und/oder FDA-zugelassene Produkte. Da sich die Verunreinigungen mit bloßem Auge nicht erkennen lassen, kann dem Implantologen nur ihre zuverlässige Verminderung durch ein validiertes Verfahren die Sicherheit geben, die er sich wünscht. Genau dies leistet der ACTILINK von Plasmapp.
Quelle:
Plasmapp Co., Ltd.
Bildquellen sofern nicht anders deklariert: Unternehmen, Quelle oder Autor/-in des Artikels
Mit Google einloggen
Mit Facebook einloggen
Keine Kommentare.